Ein Ziel für gesinterten Wolfram Sputtern, dadurch gekennzeichnet, dass es weist eine relative Dichte von 99% oder mehr, eine durchschnittliche Korngr??e Durchmesser von 100 mu m oder weniger, einen Sauerstoffgehalt von 20 ppm oder weniger und eine Auslenkkraft von 500 MPa oder mehr & halb, und ein Verfahren zur Herstellung der Wolfram-Target mit der Stabilit?t bei geringen Kosten, was eine bessere Produktionsbedingungen Verwendungen für einen Rohstoff Wolfram Pulver und verbesserte Bedingungen Sintern. Die gesinterten Wolfram-Target ist ein hohes Ma? an Dichte und einen hohen Grad der Feinheit einer Kristallstruktur, die nie durch eine konventionelle Drucksintern Methode erreicht wurden, und ist deutlich in Auslenkkraft verbessert, was den erheblichen Rückgang der Vorkommen geführt hat von Teilchen M?ngel.

Material： Wolfram
Gr??e：Thinkness( <20mm) xWideth (<300mm) x Longth(500mm)
Bedingung：Boden
Anwendung：PVD-Beschichtung Industrie, R?ntgenr?hre und so weite.